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璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机，支持<10nm 线宽
2025-08-05
璞璘科技PRINANO宣布，8月1日已成功向国内一特色工艺客户交付自研的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻(NIL)系统PL-SR。该系统攻克了喷墨涂胶工艺多项技术难题，实现了纳米级压印膜厚，平均残余层小于10nm，残余层变化小于2nm，压印结构深宽比超7:1，支持线宽小于10nm的NIL工艺。PL-SR系列已初步完成存储芯片、硅基微显、硅光及先进封装等芯片研发验证，最小可实现20mm×20mm压印模板均匀拼接，最终可达12英寸晶圆级超大模板。
