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三星已经部署了首台高数值孔径High-NA极紫外光刻设备
2 天前
今年3月，三星安装了首台高数值孔径EUV光刻设备，用于1.4纳米芯片生产，并有望通过减免关税增强与台积电的竞争力。在开发并量产2纳米以下晶圆的过程中，三星从ASML采购高NA EUV设备，这是一项高昂投资，每台设备约4亿美元。但为与半导体业最大对手台积电竞争，三星不得不承担这一风险。
