Intel公司计划在2025年量产18A工艺,这是其四年五代工艺路线图中的关键环节,该工艺将持续改进并应用至2030年。作为18A的下一代技术,14A工艺将采用ASML公司的Twinscan NXE:5000系列High NA EUV光刻机,其数值孔径提升至0.55,分辨率更高,是2nm以下制程节点的核心设备。