中信证券预测,至少三方面技术趋势将提升刻蚀设备的用量与重要性:一是采用光刻多重图案化路线;二是三维堆叠存储与近存计算需求增长;三是底层晶体管结构升级。长期而言,半导体设备国产化方向明确,短期下游扩产或驱动行业进入新一轮增长。建议关注国内刻蚀设备厂商及相关配套设备、零部件企业机遇。