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ASML全新EUV光刻机重大飞跃 1000W功率+50％、产能+50％
22 小时前
ASML近日确认，其全新一代Twinscan NXE EUV光刻机研发顺利，光源功率将提升50%至1000W，生产效率提升20%至每小时330块晶圆，预计2030年或更晚面世。ASML对此表示自豪且充满信心，已找到1500W光源的技术路径，理论上2000W亦无根本性障碍。
