据报道,三星电子已为平泽半导体生产基地P5晶圆厂集群的首个阶段PH1订购70余台光刻机,为2027年投运做准备。这些光刻机来自ASML和佳能,其中约20台为ASML的EUV曝光系统。P5 PH1将用于1c nm制程DRAM生产,同时制造通用内存和高带宽内存(HBM)。