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三星泰勒晶圆厂启动2nm试产
4 小时前
三星3nm以下制程扩张计划进展顺利，预计2nm GAA良率将达60%。基于此，三星计划在美国泰勒工厂进行下一代光刻技术试生产。该厂原为4nm晶圆制造而建，但三星已改造其海外工厂为2nm制程中心，以在与台积电的竞争中占据优势。目前，台积电限制其最先进的2nm技术进入美国市场。
