5月14日,台积电营运、先进技术工程副总经理田博仁在年度技术论坛上表示,受全球AI与高性能运算(HPC)应用爆发式增长驱动,台积电正以过往两倍速度推进全球晶圆厂扩建,同步强化先进制程与封装产能。公司计划新建及改造18座半导体工厂,其中包括5座先进封测厂。2026年,台积电将在台湾新建4座晶圆厂与2座先进封装厂,并持续推进全球12吋晶圆厂布局。海外布局方面,美国亚利桑那州第一座晶圆厂已量产4纳米制程,预计2026年产能年增1.8倍;第二座晶圆厂预计2027年下半年量产3纳米制程;第三座晶圆厂已封顶,未来将引入2纳米级节点工艺。日本熊本第一座晶圆厂已进入22及28纳米量产阶段,第二座晶圆厂预计2025年开始建设,生产3纳米技术。德国厂将聚焦汽车与工业应用,支援28纳米、22纳米、16纳米与12纳米制程技术。先进制程方面,台积电最先进的2纳米制程已进入量产,后续以2纳米为基础、搭配A16制程,也将按计划如期量产。为支援客户对2纳米制程的强劲需求,台积电将于2026年同步启动多座晶圆厂,2纳米量产第一年产出将较3纳米同期高出45%,2026年至2028年2纳米产能预计将以约70%的年复合成长率扩大。此外,台积电还将持续扩大3纳米与5纳米产能,2022年至2027年,3纳米与5纳米产能将以约25%的年复合成长率扩充。在先进封装方面,CoWoS与SoIC等3DIC技术持续推进,SoIC-X已进入量产阶段,相关产能预期将有超过80%的成长。为满足AI应用对先进封装的强劲需求,台积电2022年至2027年将以超过80%的年复合成长率,积极扩充CoWoS与相关3DIC产品产能。
