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芯片制造有新突破 光芯片压印，成本仅DUV的1/10
4 小时前
6月7日消息，6月5日璞璘科技宣布，与深圳力策合作采用真空气压式纳米压印方案，成功实现8英寸光芯片的规模化量产。该方案依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，结合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺，完全绕开深紫外（DUV）光刻路线，将芯片制造成本降至传统DUV方案的十分之一。A股中，纳米压印相关概念股包括苏大维格、美迪凯、利和兴、晶方科技、京华激光、水晶光电等。
