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ASML公布下一代Hyper-NA EUV光刻机可支撑“0.7nm” 之后更先进制程

8 小时前

全球AI算力需求激增，先进制程产能受限于光刻机。当地时间6月17日，全球唯一EUV光刻机供应商ASML在SPIE EUVL 2026大会上发布最新技术路线图，将加速推进0.55NA High-NA EUV量产，并公布下一代Hyper-NA计划，引发外界对中国半导体追赶路径的关注。

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