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国产 AST6200 光刻机：9 个月获批量订单 化合物半导体领域实现自主突破
4 小时前
芯上微装自主研发的350nm步进投影光刻机AST6200，已通过国内化合物半导体头部企业的全流程工艺验证，并获得批量重复采购订单。该设备具备350nm稳定分辨率，兼容多种衬底材料，软件控制系统全栈自主开发，适用于功率器件等产线。从首台设备发运到获得批量订单，仅用了9个月时间。AST6200填补了国产中高端光刻设备在第三代半导体量产线的空白，使国产设备在相关细分市场具备了替代进口的能力。需指出的是，该设备采用步进光刻机技术路线，与硅基逻辑芯片用的步进扫描式光刻机在原理和应用场景上有所不同。芯上微装是由上海微电子拆分设立的企业，专注于“超越摩尔”赛道，在先进封装光刻机市场，全球占比约35%，国内占比高达90%。
