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黄仁勋判断中国 2030 年能造出国产先进光刻系统
7 小时前
英伟达CEO黄仁勋认为，到2030年中国或能研发出先进光刻系统，技术成熟后国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。这一判断比阿斯麦EUV光学系统核心供应商蔡司的预测更为乐观，蔡司半导体负责人称中国研发出国产EUV光刻机可能需要约15年。值得注意的是，提问未限定为EUV，黄仁勋的回答也未明确提及EUV。
