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清溢光电：55nm PSM 产品已进入客户上线认证阶段
7 小时前
清溢光电的55nm PSM相移掩膜版已与客户签署保密协议、确认产品规格书，并收到采购订单完成交货，目前进入客户上线认证阶段。该产品应用于半导体芯片制造中对图形精度要求高的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、部分特色工艺及功率器件等场景。若顺利通过认证并实现批量供货，将完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，增强盈利能力。
