搜索
ASML CEO：由于美国禁售EUV光刻机，中国芯片技术将落后西方 10-15 年
2024-12-26
ASML（阿斯麦）首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）近日指出，由于美国禁止向中国出口EUV光刻设备，中国芯片技术与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，将落后西方10到15年。这一落后主要归因于美国对EUV（极紫外光）设备的出口禁令，导致中国无法获取尖端光刻机。
