台积电离职工程师陈力铭、在职工程师吴秉骏、戈一平涉泄漏关键技术，遭中国台湾检方依违反安全法等罪起诉，知识产权及商业法院近期辩论终结，定于4月27日宣判，另查出陈力铭前年涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，以手机偷拍机密资料，今裁定陈力铭、陈韦杰2人自4月1日及8日起延押2月。

中国台湾高检署知识产权检察分署起诉指出，陈力铭曾任台积电12厂良率部门工程师，离职后进入台积电的半导体制造设备供应商TEL行销部门。

检方表示，陈力铭于2023年至2025年上半年，为替TEL争取成为台积电先进制程更多站点设备供应商，多次要求当时在职的台积电工程师吴秉骏、戈一平提供关键技术与营业秘密，拍摄重制后由TEL检讨改善蚀刻机台表现，争取台积电2nm制程蚀刻站点供应量产机台资格。

台积电发觉异常后内部调查，怀疑有在职与离职员工非法取得关键技术与营业秘密，于2025年7月8日提出告诉。知识产权分署检察官于同年7月25至28日指挥调查局发动搜索、约谈，讯后将陈力铭、吴秉骏、戈一平声请羁押禁见获准。

知识产权分署于去年8月27日依营业秘密法意图域外使用而窃取营业秘密罪、窃取营业秘密罪、安全法核心关键技术营业秘密之域外使用罪起诉3人，并求处陈力铭应执行有期徒刑14年、吴秉骏应执行9年徒刑、戈一平7年徒刑。

检方后续又查出，陈力铭于2024年5月涉嫌指使前台积电工程师陈韦杰，以手机偷拍数十张涉及2nm制程原料与设备技术的机密资料。事件曝光后，TEL卢姓行销经理疑为掩盖证据，删除云端硬盘内的台积电机密资料。

检方依安全法及湮灭刑事证据等罪嫌，追加起诉陈力铭、陈韦杰、卢姓经理及TEL，并分别对陈力铭求刑7年、陈韦杰8年8月、卢姓经理1年，TEL则求处罚金2500万元新台币。

全案侦查终结后，检方于今年1月提起第二次公诉；陈韦杰移审后，也遭知识产权及商业法院裁定续押。知识产权及商业法院近期辩论终结，将在今年4月27日上午11时宣判，同时命吴秉骏、戈一平于宣判期日到庭聆判。

检方另考量被告陈韦杰否认违反安全法犯行，对所涉犯罪情节、手段供词，确曾前后所述不一，并对犯罪细节避重就轻，对陈韦杰共同犯罪情节调查，仍有勾稽比对相关电磁纪录与共犯陈力铭及其他证人供述内容可能性，倘若陈力铭、陈韦杰2人仍有机会相互勾串或湮灭证据，有使案情陷于混沌不明的高度可能性，原羁押原因现仍存在，今裁定陈力铭和陈韦杰自今年4月1日及8日起，延长羁押2月并禁止接见通信。