精测半导体“一种薄膜参数的测量方法”专利公布
2025-01-03

上海精测半导体技术有限公司申请的“一种薄膜参数的测量方法”专利于2024年11月29日公布,申请公布号为CN119044075A。该方法基于非线性回归迭代求解,能提高测量准确度,避免跳过参数最优解。