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Lam Research通过干法光刻胶技术实现28nm间距的高分辨率图案化

2025-01-14

Lam Research Corporation宣布，其创新的干光刻胶技术已获imec认证，该技术可直接用于印刷2纳米及以下、28纳米间距的线路后端（BEOL）逻辑。imec是纳米电子和数字技术领域的领先研究和创新中心。

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