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清华大学电机系付洋洋课题组合作在射频等离子体研究方面取得最新进展
2025-02-21
高端芯片制造装备已成为全球科技竞争的战略焦点。等离子体技术，在半导体加工的光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入与清洗等环节扮演着至关重要的角色，其技术总成占据了集成电路产业三分之一以上的市场份额，成为支撑国家重大战略、推动数字经济发展及保障信息产业安全的核心技术。其中，低气压射频放电技术，作为生成刻蚀用大尺寸等离子体源的关键手段，是等离子体刻蚀机等核心半导体装备的技术基石。随着芯片制程技术的不断进步，如何产生大尺寸且均匀稳定的射频等离子体源，已成为发展先进刻蚀工艺的重要前提。近日，清华大学电机系付洋洋副教授课题组在《物理评论快报》上发表了研究成果，掌握了大尺寸射频等离子体的多参数耦合与调控规律，为高端等离子体刻蚀装备与工艺的研发开辟了新路径。
