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全球首款第二代High NA EUV光刻机正式出货
1 天前
全球顶尖光刻设备制造商宣布，其最新研发的第二代High NA EUV光刻机EXE:5200已出货给英特尔，单价近30亿元人民币。该设备晶圆处理能力更强，可满足2纳米及以下制程的大规模生产需求。其0.55数值孔径光学系统大幅提升了分辨率和精度，有望推动多个先进制程节点发展，并逐步应用于存储器制造。然而，受多方因素制约，该设备目前无法供货给中国厂商。
