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清华大学李星辉团队在跨尺度结构混合光刻制备技术领域取得重要进展
3 天前
9月16日消息，随着半导体制造、精密光学加工及大型光学系统的发展，纳米级定位技术已成为现代工业与科研中的关键。光栅干涉测量技术凭借其高分辨率、多自由度及结构紧凑等优势，在高精度位移测量领域得到广泛应用。然而，传统增量式光栅虽精度高，但缺乏绝对位置标记，限制了其在动态运行和长期测量中的稳定性。
