搜索
俄罗斯公布EUV光刻机路线图 三步走冲顶亚10nm
2 天前
俄罗斯科学院微结构物理研究所（由德米特里・库兹涅佐夫牵头）制定了国产极紫外（EUV）光刻设备的长期规划，该设备工作波长为11.2纳米，进一步补充了该机构去年12月公布的信息。新项目计划于2026年启动，初期采用40nm制造技术，预计持续至2037年，最终实现亚10nm制造工艺的集成。
