8月19日消息,长电科技今日宣布,在高深宽比TSV(硅通孔)技术研发上取得重要进展,并已与合作伙伴共同完成样品试制。长电科技的TSV制备方案主要面向2.5D/3D先进封装、硅基互连及多维异质异构集成等高端应用,旨在提升公司在微系统集成平台中的关键底层工艺能力,为高算力、高存力芯片的系统级集成提供更全面、灵活的一站式制造支持。