2026年10月12日,江苏海思半导体科技有限公司(HISIGK)迎来境外客户验收代表团,对即将出口的全自动光刻机进行出厂验收。验收通过后,该设备将立即发运,这已是HISIGK自2024年以来出口的第17台光刻设备。次日,一台面向8英寸(200mm)晶圆的全自动掩模对准光刻机也完成出厂调试与客户验收,装车发运,将用于硅基Micro LED晶圆的图形化制程。需注意的是,HISIGK与华为旗下的海思技术有限公司并非同一家。HISIGK核心团队拥有15年黄光区光刻工艺经验,已推出多款光刻设备,并在苏州相城与成都天府新区设立双基地,产品覆盖2至12英寸晶圆单面、双面对准光刻设备,广泛应用于MEMS、集成电路、化合物半导体等多个领域。
