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中微公司：减压外延设备已付运到先进制程客户端进入量产验证阶段，常压外延设备也在进入晶圆验证阶段
6 小时前
11月2日，中微公司在分析师会议上表示，PECVD及CuBS PVD是薄膜沉积设备中价值占比较高的产品。公司PECVD设备配置16个反应台，采用最新等离子体源，沉积速度更高，输出量较国内外标配设备提升80%至100%；PECVD氮氧叠层、碳掩膜等新品正在客户端顺利验证。CuBS PVD设备配置14个反应腔，采用对称双路径设计，可大幅降低BS电阻率，输出率较国内外标配设备提升50%至100%，已获多家头部客户认可，并交付至国内先进逻辑器件研发线验证。EPI设备是先进逻辑工艺的关键设备，公司减压外延设备已付运至先进制程客户端进入量产验证阶段，常压外延设备也正进入晶圆验证阶段。
