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新美光“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”专利获授权
2024-12-11
新美光(苏州)半导体科技有限公司近日取得一项名为“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”的专利，授权公告号为CN118374794B。该专利通过设计内部中空的衬底结构，并利用位于中空区的加热体对衬底的第一表面和第二表面进行均匀加热，提高了沉积材料的厚度均一性及组织性能均匀性。该专利的申请日期为2024年6月26日，授权公告日为2024年11月5日。
