台积电首次公开2nm工艺细节:性能提升15%、功耗降低35%
2024-12-16

IEDM 2024大会上,台积电首次公开N2 2nm工艺细节:相比3nm工艺,晶体管密度提升15%,同等功耗下性能提高15%,或同等性能下功耗降低24%-35%。新工艺引入全环绕栅极纳米片晶体管等技术,实现能效优化。