三星电子与SK海力士正对其位于中国的西安和大连工厂进行升级,旨在生产更高层数的NAND闪存芯片,以应对长江存储的崛起并满足人工智能领域不断增长的存储需求。两家公司表示,相关工作正与美国方面保持密切沟通,但未透露具体生产计划。三星电子的西安工厂目前生产约200层芯片,占其全球NAND产量的约40%。升级后,该工厂将生产286层V9 NAND闪存芯片,内部称该项目为“Monami”,目标是在2026年12月实现月产5000片晶圆,2027年12月提升至月产4万片。三星强调,此次升级不涉及扩大产能或新建制造设施,旨在满足全球客户需求。SK海力士的大连工厂目前生产约192层产品,计划升级后生产240层及以上NAND产品。目前,该公司已获准在大连生产最高240层的芯片,并可能向美国政府申请在当地开展300层以上芯片的研发,为未来赴美生产相关产品做准备。同时,SK海力士正与特朗普政府讨论在美国新建NAND工厂的计划。受2022年起美国实施的芯片制造设备出口管制政策影响,两家企业在中国工厂安装美国制造设备需每年申请许可证。美国商务部此前表示,计划允许两家公司继续运营现有中国工厂,但不打算批准扩产或技术升级申请。此次升级所需设备出口许可的获批程度尚未确认。当前,长江存储在中国NAND市场份额持续上升,2026年第二季度占比达38.5%,已超过三星。长江存储目前主要生产160层和232层产品,少量生产294层芯片,并计划推出300层以上产品。三星和SK海力士在中国以外市场已分别推出最高286层和321层的NAND芯片。
